单/多通道膜厚监测仪，可以拓展至3个独立的膜厚监测系统，含有三路膜厚探头，分别监测不同空间位置的镀膜速率，如加热镀膜源位置、样品台位置、磁控靶头位置等，互相印证以便更准确的控制真空镀膜过程。

       真空镀膜作为半导体、显示、光伏等行业的重要工艺流程，对于器件和模组最终的产品性能起着至关重要的作用。